半导体设备:打铁还需自身硬 半导体设备国产化砥砺前行|每日观点
2023-05-25 21:21:26 | 来源:华金证券股份有限公司 | 编辑: |
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事件点评
2023 年5 月23 日,日本正式出台《外汇及对外贸易法》修正版,对六大类23 种尖端半导体制造设备实施出口管制措施。经过两个月公告期后,预计于7 月23 日正式施行。根据新规,除了向友好国等42 个国家和地区出口,相关半导体生产设备出口至“非白名单”国家时,需申请并获得官方发布出口许可。中国、俄罗斯等国家均属于受限制造出口目标地。
日本为向中国出口半导体设备份额最多国家,占比近40%。根据彭博社数据,中国主要从日本、新加坡、美国、荷兰及韩国等国家进口半导体制造设备,其中日本向中国出口半导体制造设备份额占比为39%,是排名第二的新加坡(17%)的2 倍以上,美国、荷兰及韩国占比分别为10%、8%及7%。根据国际贸易中心数据,日本半导体设备出口总额为305 亿美元,其中对华出口118 亿美元,出口额是美国对华设备出口近2 倍。
管制设备包括清洁、沉积、光刻和蚀刻等,尼康ArF 浸没式光刻机均在限制之中。根据统计,2022 年ASML、Cannon、Nikon 光刻机销量分别为345、176、38 台,ASML 光刻机销量远超其余两家之和,为Cannon、Nikon 合计销量1.6倍。从提供光刻机类别层面分析,ASML 为EUV 光刻机唯一供应商,ASML 与Nikon 能提供ArFi、ArF 光刻机。在光刻设备中,用于处理晶圆的步进重复式、步进扫描式光刻机设备(光源波长为193 纳米以上、且光源波长乘以0.25 再除以数值孔径得到数值为45 及以下)受到管制。据此,Nikon NSR(Immersion &MP)平台光刻机均包含在内,型号包括NSR-S635E、S631E 及S622D,中国已无法从日本进口ArFi 光刻机。
中国大陆对日本光刻、刻蚀及热处理设备依赖度较高,各领域进口日本设备占比均超20%。根据中国海关,2022 年中国大陆进口步进重复光刻机金额约14.2亿美元,日本占比为28%;CVD/PVD 进口金额分别为37.2 亿美元和11 亿美元,日本占比分别为10.3%和7%;等离子刻蚀设备进口金额37.5 亿美元,日本占比31%;热处理进口金额17.4 亿美元,日本占比59%;离子注入机进口金额10.6 亿美元,日本占比16%。
投资建议:考虑到我国进口日本光刻、刻蚀及热处理等设备占比较高,此次日本对六类设备实施出口管制,将为部分领域带来广阔进口替代空间。建议关注对日本设备依赖程度较高领域中,科研创新能力突出,产品性能出色,供应链管控能力强龙头企业。
风险提示:半导体行业景气度不及预期;国产替代进程放缓;产品研发进度不及预期;宏观经济形势变化风险。
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