观速讯丨电子行业周报：推动产业高质量发展 光刻机乃重中之重

报告摘要行情回顾

本周电子（申万）板块指数周涨跌幅为+1.2%，在申万一级行业涨跌幅中排名第5。电子行业（申万一级）涨幅居前，跑赢上证指数0.54pct，跑赢沪深300指数1.38pct。电子行业PE处于近五年25.1%的分位点，电子行业指数处于近五年 51.2%的分位点。

伴随着两会的召开，国内集成电路的发展引发业界的高度关注。

(资料图)

本周工信部提出：壮大数字经济核心产业，推动集成电路、工业软件产业高质量发展；国资委提出：更大力度布局前瞻性战略性新兴产业，在集成电路、工业母机等领域加快补短板强弱项。光刻机作为“卡脖子”关键环节，也是市场关注的焦点。

光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠，技术壁垒极高。

光刻（Lithography）技术是指在特殊波长光线或电子束作用下，借助光刻胶，将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到基片（硅片）上的图形精密表面加工技术。光刻机是光刻工艺的核心设备，是精密光学、精密运动学、高精度微环境控制、算法、微电子等先进技术的集大成者。光刻机的四大核心模组分别为光源模组、照明光学模组、光罩模组和晶圆模组。其中曝光系统、物镜、工件台等成本占比较高。

高端光刻机市场 ASML一家独大，国产光刻机曙光初显。

根据 SEMI 数据测算，2022 年全球集成电路用光刻机市场规模约 180亿美元，中国大陆光刻机市场约30亿美元。从ASML、Canon、Nikon三家头部光刻机厂商出货机台数来看，ASML 一家垄断高端 EUV 市场，在浸没式DUV设备（ArFi）、ArF光源DUV设备分别占95%、87%。

上海微电子（SMEE）在光刻机领域有多年积累，目前最先进的前道光刻设备SSA600/20步进扫描投影光刻机，采用ArF光源，4倍缩小倍率的投影物镜，可满足IC前道90nm光刻工艺要求。2017年公司承担的02重大科技专项任务“浸没光刻机关键技术预研项目”通过了验收，目前公司正推进ArFi DUV的研发，若能顺利跑通，将是国内晶圆制造全国产化产线的一大步迈进。除了SMEE外，中科院长春光机所、中科院光电所也参与光刻机研发。国内还有西安光机所、上海光机所等光学精密机械研究所。国产光刻机发展必将借助“举国体制”之力，重点关注SMEE和几大科研院所的研究进展以及其参股资产的投资机会。

整机进展未来可期，光刻机零部件先行。

ASML的上游供应商包括美国Cymer、日本Gigaphoton（光源）、德国Zeiss（光学镜头）、美国Lumentum（激光器）等，一台光刻机由数万个零件构成，以ASML的 50%的毛利率为参考，国内光刻机零部件的市场空间超100亿元。国内目前在光刻机产业链多环节已经形成一定的配套能力，合力共赢，建议积极把握零部件的投资机会。非上市公司方面：上海微电子（整机）、北京科益虹源（光源）、国望光学（光学镜头）、华卓精科（双工件台）、浙江启尔机电（浸没系统）；上市公司：茂莱光学（DUV光学透镜），炬光科技（光刻机用光场匀化器），美埃科技（保障洁净环境）。以及有望参与国产光刻机研发，助力产业发展的福品科技（国内领先的光学晶体企业，配套激光器件一体化），奥普光电（光栅编码器国内技术领先）。

建议关注

光刻机相关标的：茂莱光学、福晶科技、炬光科技、奥普光电、美埃科技；其他半导体设备：北方华创（本月金股）、拓荆科技、芯源微、华海清科；半导体材料：华懋科技、华特气体、彤程新材、雅克科技等。

风险提示：

美国制裁蔓延至成熟制程、国内光刻机研发进展不及预期、产能建设进度不及预期。

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